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半導體芯片表面灰塵處理方式有哪些
    半導體芯片表面灰塵處理的方式包括以下幾種：
 
1. 空氣吹掃：使用高壓空氣吹掃表面的灰塵，這是一種快速和便捷的清洗方法，但要注意吹洗的壓力和方向不要對芯片造成任何傷害。
2. 液態(tài)二氧化碳清洗：俗稱雪花清洗，屬于干式清洗，利用液態(tài)二氧化碳低溫和爆破的特性，通過壓縮空氣將液態(tài)二氧化碳噴射的半導體表面，清洗能力優(yōu)于直接空氣吹掃，而且液態(tài)二氧化碳噴射后直接生化，亦不會產生二次污染，所以適合用來清洗不適合用化學方式清洗的產品。
3. 離子清洗：通過離子束清洗、離子轟擊等技術將表面的灰塵和有機物質清洗干凈，該方法可以清除芯片表面10納米以內的灰塵。
 
具體的處理方式需要根據灰塵的種類和嚴重程度來選擇。
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